高功率连续脉冲半导体光纤激光光路系统方案设计就是根据客户使用条件，来决定满足使用要求的各种方案，即光学系统的结构形式、性能参数、外形尺寸等。我们可以为客户提供独特的、专业的、批量化定制光学系统设计。

    光学设计过程分为四个个阶段：外形尺寸计算、初始结构计算、象差校正和平衡以及象质评价。

一、外形尺寸计算

    设计拟定出光学系统原理图，确定基本光学特性，使满足给定的技术要求，即确定放大倍率或焦距、线视场或角视视场、数值孔径或相对孔径、共轭距、后工作距离光阑位置和外形尺寸等。在计算时一定要考虑机械结构和电气系统，以防止在机构结构上无法实现。每项 性能的确定一定要合理，过高要求会使设计结果复杂造成浪费，过低要求会使设计不符合要求。

二、初始结构的计算和选择

初始结构的确定常用以下两种方法：

    1.根据初级象差理论求解初始结构

    2.从已有的资料中选择初始结构

    这是一种比较实用又容易获得成功的方法。但其要求设计者对光学理论有深刻了解，并有丰富的设计经验，只有这样才能从类型繁多的结构中挑选出简单而又合乎要求的初始结构。一个不好的初始结构，再好的自动设计程序和有经验的设计者也无法使设计获得成功。

三、象差校正和平衡

    初始结构选好后，要在计算机上用ZEMAX、CODEⅤ等软件对光学系统进行分析和光路追迹，算出全部象差及各种象差曲线。从象差数据分析就可以找出主要是哪些象差影响光学系统的成象质量，从而找出改进的办法，开始进行象差校正。象差分析及平衡是一个反复进行的过程，直到满足成象质量要求为止。

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