光学镀膜被广泛应用于增强光学组件的透射、反射或偏振特性。例如，未镀膜玻璃器件表面约有4%的入射光会被反射，而采用增透膜可将反射率降低到0.1%以下，高反射介电膜则可将反射率提高到99.99%以上。鼎鑫盛光学提供的这些镀膜由氧化物、金属或稀土材料等薄层组成，其性能主要取决于层数、厚度及不同层间的折射率差异。
镀膜原理与构造
光学镀膜通过沉积介电材料和金属材料（如五氧化二钽Ta₂O₅和/或三氧化二铝Al₂O₃）的交替薄层来创建。这些薄膜的光学厚度通常为所使用光波波长的λ/4（四分之一波长光学厚度，QWOT）或λ/2（半波长光学厚度，HWOT），旨在最大限度地提高或降低干涉效应。这些薄膜由高折射率和低折射率材料交替构成，以实现所需的干涉效应。
设计镀膜时，需考虑特定入射角和偏振角度（如s偏振、p偏振或随机偏振）下的光学组件性能。若入射角或偏振角与设计值不符，性能将显著下降，甚至可能导致镀膜功能完全丧失。
光学理论基础
理解光学镀膜需掌握折射和反射的菲涅耳方程。折射是光波从一种介质传播到另一种介质时方向的变化，遵循斯涅尔折射定律：
反射定律指出，反射光线相对于表面法线的角度与入射角相等但方向相反。当光线从折射率较高的介质入射到折射率较低的介质且入射角大于临界角时，会发生全反射。
菲涅耳方程决定了两种光介质界面处的透射和反射振幅系数，对于s偏振和p偏振光有不同的表达式。在正入射下，两种偏振状态的振幅系数相同。
镀膜技术
鼎鑫盛光学采用多种镀膜技术，包括蒸发沉积、等离子溅射、离子束溅射（IBS）和原子层沉积（ALD），各有优缺点：
蒸发沉积：经济有效，适用于大尺寸镀膜。但生成的镀膜较为松散，可能吸水导致性能下降。离子辅助沉积（IAD）可增强镀膜致密度和粘附性。
等离子溅射：在蒸发沉积和离子束溅射之间实现了价格和性能的平衡。
离子束溅射（IBS）：能够精确控制镀膜生长速度、能量输入和氧化水平，实现高重现性和最小层厚度误差。生成的镀膜致密光滑，反射率可达99.99%以上，耐化学性强，适用于恶劣环境。但成本较高，可能产生应力和变形。
原子层沉积（ALD）：对层厚度和设计具有非凡的控制能力，不依赖于光学表面几何形状。沉积速度缓慢，成本高，但适用于大批量和复杂几何形状的光学元件镀膜。
综上所述，鼎鑫盛光学的光学镀膜技术通过精确设计和控制，实现了光学组件性能的大幅提升，广泛应用于各种光学系统、激光设备、医疗设备、工业设备中。