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「发明专利公布」一种表面低反射吸收膜片及其制备方法

日期: 2025.05.10
来源: admin
浏览次数: 567

发明专利公布


发明名称:一种表面低反射吸收膜片及其制备方法

专利权人:深圳市鼎鑫盛光学科技有限公司


摘要:本发明公开了一种表面低反射吸收膜片及其制备方法,属于光学薄膜技术领域。包括衬底基板,还包括吸收膜,所述吸收膜镀于所述衬底基板表面,所述吸收膜包括依次连接的第一介质膜、金属膜和第二介质膜;利用电子束蒸发镀制所述吸收膜。通过金属膜提供膜层的吸收,利用第一介质膜和第二介质膜来消除金属膜的高反射率并保证膜层的内反射和透射达到光学系统的要求,优化了整个膜层的应力,使膜层牢固度更优异,使衬底基板和介质膜层的结合强度更高,薄膜性能稳定。

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